在半導(dǎo)體封裝工藝中，銅引線框架憑借其優(yōu)異的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和加工性能，成為主流的芯片載體材料。然而，銅在空氣中極易氧化，形成的氧化層（如CuO、Cu?O）不僅會(huì)降低引線框架的表面活性，還會(huì)導(dǎo)致封裝過(guò)程中的分層、鍵合失效等問(wèn)題，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的可靠性和良率。
等離子清洗在銅引線框架去氧化中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)
（一）高效去氧化
等離子清洗技術(shù)能夠在短時(shí)間內(nèi)徹底去除銅引線框架表面的氧化層。例如，采用Ar/H?混合氣體（比例1:4）進(jìn)行等離子清洗時(shí)，可將表面氧含量降至0.1at%以下，遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)化學(xué)清洗的殘留水平。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)顯示，經(jīng)過(guò)等離子清洗的銅引線框架，其表面水滴角從清洗前的70°以上降低至15°以下，表明表面活性顯著提升。
（二）環(huán)保無(wú)污染
與傳統(tǒng)的酸洗工藝相比，等離子清洗無(wú)需使用強(qiáng)酸強(qiáng)堿等化學(xué)試劑，避免了廢水排放和環(huán)境污染問(wèn)題。清洗過(guò)程中產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)可通過(guò)真空泵直接排出，符合綠色制造的發(fā)展趨勢(shì)。
（三）工藝兼容性強(qiáng)
等離子清洗技術(shù)適用于各種形狀和尺寸的銅引線框架，且不會(huì)對(duì)材料造成機(jī)械損傷。其低溫處理特性（通常低于100℃）避免了高溫對(duì)芯片和封裝材料的熱影響，確保了產(chǎn)品的性能穩(wěn)定性。
（四）提升封裝可靠性
等離子清洗后的銅引線框架表面潔凈度和活性顯著提高，能夠增強(qiáng)與封裝材料（如環(huán)氧樹(shù)脂、塑封料）的粘接強(qiáng)度，減少分層和空洞現(xiàn)象。實(shí)際應(yīng)用中，經(jīng)過(guò)等離子清洗的封裝產(chǎn)品，其分層率可降低50%以上，良率提升20%以上。
